Película multicapa de nitruro de boro (HBN) sobre Ni

Nombre del producto

^{Nombre: Película de nitruro de boro multicapa (HBN) sobre Ni}

Descripción general del producto

^{La película delgada de nitruro de boro es un material bidimensional compuesto por átomos alternados de boro y nitrógeno, con una estructura reticular similar al grafeno. Posee las excelentes propiedades de los materiales a granel de nitruro de boro, incluyendo propiedades mecánicas, eléctricas, térmicas y ópticas, y gracias a su singular estructura bidimensional, posee más características y un mayor potencial de aplicación. El método de CVD consiste en introducir un gas o vapor que contiene boro y nitrógeno en una cámara de reacción, donde se produce una reacción química en la superficie del sustrato para depositar una película de nitruro de boro. Este método permite una deposición de película de alta densidad y alta calidad a bajas temperaturas, y su espesor, cristalinidad y morfología se pueden controlar ajustando las condiciones de reacción.}

^{Parámetros técnicos}

^{Sótano: Ni}

^{Número de capa: 15 capas}

^{Características del producto}

^{Excelente rendimiento de aislamiento: el nitruro de boro en sí mismo es un buen aislante eléctrico, y la película de nitruro de boro preparada por CVD hereda esta característica, con una resistividad eléctrica muy alta.}

^{Buena estabilidad térmica y alta conductividad térmica: Las películas de nitruro de boro CVD mantienen una estructura y propiedades estables a altas temperaturas. Presentan una alta conductividad térmica, que oscila entre decenas y centenas de W/(m·K) (los valores específicos pueden variar según factores como la calidad y la estructura de la membrana). Esta alta conductividad térmica permite una conducción eficaz del calor lejos de la fuente de calor, lo cual resulta de gran utilidad en aplicaciones de disipación térmica.}

^{Estabilidad química: La película de nitruro de boro CVD es inerte a la mayoría de las sustancias químicas y no es propensa a reacciones químicas con ácidos, bases, disolventes orgánicos, etc.}

^{Alta planitud superficial: Las películas de nitruro de boro preparadas mediante el método CVD suelen tener una superficie relativamente lisa y plana.}

^{Alta pureza de los componentes: mediante el método de CVD, se pueden preparar películas de nitruro de boro relativamente puras con bajo contenido de impurezas. Esto permite aprovechar al máximo las excelentes propiedades de los materiales de nitruro de boro y reducir los defectos de rendimiento causados por las impurezas.}

^{Campos de aplicación}

^{Dispositivos electrónicos: Las películas delgadas de nitruro de boro tienen buenas propiedades de aislamiento y estabilidad a altas temperaturas, y pueden usarse para capas de aislamiento y aplicaciones de gestión térmica en dispositivos electrónicos.}

^{Dispositivos ópticos: Las películas delgadas de nitruro de boro tienen buena transparencia en las regiones de luz visible y ultravioleta y se pueden utilizar para dispositivos ópticos y recubrimientos ópticos.}

^{Materiales de interfaz térmica: Debido a su excelente conductividad térmica, las películas delgadas de nitruro de boro se pueden utilizar para preparar materiales de interfaz térmica y disipadores de calor.}

^{Información relacionada}

^{Envíe un correo electrónico para obtener los datos de caracterización detallados.}

Correo electrónico:sales@xfnano.com