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Grafeno CVD sobre cuarzo (1 mm)
Detalles del producto
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Nombre del producto
Nombre: Grafeno CVD sobre cuarzo
Descripción general del producto
El proceso de preparación de grafeno mediante CVD incluye principalmente tres factores importantes: el sustrato, el precursor y las condiciones de crecimiento. Entre ellos, el sustrato es una condición fundamental para el crecimiento del grafeno. Actualmente, 8-10 metales de transición (como Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Au) y aleaciones (como Co Ni, Au Ni, Ni Mo, acero inoxidable). El mecanismo de preparación de grafeno por CVD varía entre los diferentes materiales de sustrato, dividido principalmente en dos mecanismos de preparación: carburación y mecanismo de deposición de carbono, que implica la infiltración de carbono agrietado en el sustrato a altas temperaturas y la formación de grafeno en la superficie durante un enfriamiento rápido; El mecanismo catalítico de superficie se refiere a la formación de grafeno en la superficie del carbono después del agrietamiento a altas temperaturas cuando entra en contacto con un metal específico (como el cobre), y protege la muestra de una mayor deposición de películas delgadas. Por lo tanto, es más probable que este mecanismo forme grafeno de una sola capa.
En aplicaciones prácticas, el método de síntesis de películas de grafeno CVD puede variar según los requisitos y condiciones experimentales específicos. Los investigadores suelen optimizar y ajustar el proceso de síntesis en función del rendimiento objetivo y los escenarios de aplicación. Mientras tanto, se desarrollan y exploran constantemente nuevos métodos y tecnologías de síntesis para mejorar la calidad y el rendimiento de las películas de grafeno.
Generalmente, el grafeno se cultiva primero en un sustrato metálico, luego se recubre con PMMA y se transfiere a sustratos como óxido de silicio, cuarzo, vidrio, PET o malla de cobre.
Parámetros técnicos
Tamaño : 1 cm x 1 cm
Número de capas: una capa, 2 capas, 3-5 capas, 6-8 capas
Características del producto
Alta calidad: con alta pureza y cristalinidad;
Buen rendimiento eléctrico: alta movilidad de portadores y baja resistividad;
Alta transparencia: tiene buena transparencia para la luz visible;
Alta resistencia mecánica: tiene buena flexibilidad y tolerancia;
Buena estabilidad química: presenta buena estabilidad a temperatura ambiente.
Campos de aplicación
Dispositivos electrónicos: como transistores de efecto de campo, condensadores, etc.
Componentes ópticos: películas conductoras transparentes, pantallas táctiles, etc;
Sensores: sensores químicos, biosensores, etc;
Sector energético: como células solares, supercondensadores, etc;
Materiales compuestos: Compuesto con otros materiales para mejorar el rendimiento.
Información relacionada
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Correo electrónico:sales@xfnano.com