Grafeno CVD sobre Si 1 cm x 1 cm

Nombre del producto Nombre: Grafeno CVD en Si 1 cmx1 cm Descripción general del producto El proceso de preparación de grafeno por CVD incluye principalmente tres factores de influencia importantes: sustrato, precursor y condiciones de crecimiento. Entre ellos, el sustrato es una condición importante para el crecimiento del grafeno. Actualmente, de 8 a 10 metales de transición (como Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Au) y aleaciones (como Co Ni, Au Ni, Ni Mo, acero inoxidable). El mecanismo de preparación de grafeno por CVD varía entre los diferentes materiales de sustrato, dividido principalmente en dos mecanismos de preparación: carburación y mecanismo de deposición de carbono, que implica la infiltración de carbono agrietado en el sustrato a altas temperaturas y la formación de grafeno en la superficie durante un enfriamiento rápido; El mecanismo catalítico de superficie se refiere a la formación de grafeno en la superficie del carbono después del agrietamiento a altas temperaturas cuando entra en contacto con un metal específico (como el cobre), y protege la muestra de una mayor deposición de películas delgadas. Por lo tanto, es más probable que este mecanismo forme grafeno de una sola capa. En aplicaciones prácticas, el método de síntesis de películas de grafeno CVD puede variar dependiendo de los requisitos y condiciones experimentales específicos. Los investigadores típicamente optimizan y ajustan el proceso de síntesis basándose en el rendimiento objetivo y escenarios de aplicación. Mientras tanto, nuevos métodos y tecnologías de síntesis están en constante desarrollo y exploración para mejorar la calidad y rendimiento de películas de grafeno. Usualmente, el grafeno es cultivado primero en un sustrato de metal, luego recubierto por centrifugación con PMMA y transferido a sustratos tales como óxido de silicio, cuarzo, vidrio, PET o malla de cobre. Parámetros técnicos Tamaño: 1 cm x 1 cm Número de capas: Capa única, 2 capas, 3-5 capas, 6-8 capas Características del producto Alta calidad: con alta pureza y cristalinidad; Buen rendimiento eléctrico: alta movilidad de portadores y baja resistividad; Alta transparencia: tiene buena transparencia para luz visible; Alta resistencia mecánica: tiene buena flexibilidad y tolerancia; Buena estabilidad química: exhibe buena estabilidad a temperatura ambiente. Campos de aplicación Dispositivos electrónicos: tales como transistores de efecto de campo, capacitores, etc.; Componentes ópticos: películas conductoras transparentes, pantallas táctiles, etc.; Sensores: sensores químicos, biosensores, etc. Sector energético: como células solares, supercondensadores, etc. Materiales compuestos: compuestos con otros materiales para mejorar el rendimiento. Para obtener información relacionada, envíe un correo electrónico a sales@xfnano.com para obtener los datos de caracterización detallados.