Detalles del producto
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Nombre del producto
Nombre: Lámina de cobre
Descripción general del producto
La lámina de cobre específica para grafeno CVD es un material especial con importantes aplicaciones en la preparación de grafeno. Antes de cultivar grafeno, la lámina de cobre se recoce a una temperatura de sustrato de 1000 °C durante 30 minutos para promover el crecimiento de los granos de cobre, reducir las zonas propensas a la nucleación del grafeno, como los límites de grano, y disminuir la densidad de nucleación durante el crecimiento del grafeno.
Parámetros técnicos
Tamaño: 20 x 30 cm
Espesor: ~25μm
Pureza: > 99,9 % en peso
Características del producto
La alta pureza puede reducir eficazmente la interferencia de las impurezas en el proceso de crecimiento del grafeno, garantizando así la calidad cristalina y las propiedades eléctricas del grafeno.
La planitud y suavidad de la superficie son excelentes. Esta superficie lisa proporciona un sustrato ideal para el crecimiento uniforme del grafeno, lo que facilita la formación de películas de grafeno continuas, de gran superficie y con un rendimiento uniforme.
Campos de aplicación
Se utiliza para el método CVD para producir grafeno feldespato.
Información relacionada
Envíe un correo electrónico para obtener los datos de caracterización detallados.
Correo electrónico:sales@xfnano.com
