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Nom du produit
Nom : PET
Présentation du produit
Le procédé CVD (dépôt chimique en phase vapeur) joue un rôle important dans la préparation de matériaux disulfures, notamment pour la préparation de couches métalliques bidimensionnelles telles que le disulfure de molybdène MoS2, le disulfure de tungstène WS2, etc. Lors de la préparation de ces matériaux, le procédé CVD utilise des précurseurs gazeux (sources métalliques et sources de soufre) pour provoquer des réactions chimiques à la surface du substrat chauffé, générant ainsi la couche mince de disulfure souhaitée. Selon le type de disulfure recherché, les sources métalliques courantes comprennent les poudres métalliques, les halogénures métalliques, etc., tandis que les sources de soufre comprennent la poudre de soufre et le sulfure d'hydrogène, etc.
Les dichalcogénures métalliques bidimensionnels en couches ont suscité un vif intérêt en raison de leurs excellentes propriétés optoélectroniques, de leur bande interdite ajustable et de leur excellente stabilité à l'air. La méthode CVD, parmi les méthodes efficaces pour la préparation de ces matériaux, offre de vastes perspectives d'application dans des domaines tels que les dispositifs optoélectroniques, les capteurs et le stockage d'énergie. Par exemple, les matériaux bidimensionnels tels que le disulfure de molybdène et le disulfure de tungstène sont largement utilisés dans des domaines tels que les photodétecteurs, les cellules solaires et les supercondensateurs.
Paramètres techniques
Taille : 20 cm x 30 cm
Épaisseur : ~180 μm
Caractéristiques du produit
Préparation à grande échelle : la méthode CVD peut préparer des films de disulfure de grande surface et uniformes, répondant aux besoins des applications à grande échelle.
Haute qualité : en optimisant les conditions de réaction, des films de disulfure de haute qualité et de haute pureté peuvent être préparés avec d'excellentes propriétés physiques et chimiques.
Contrôlabilité : la méthode CVD peut contrôler avec précision des paramètres tels que l'épaisseur du film, la morphologie et la qualité des cristaux, offrant la possibilité de préparer des matériaux disulfures avec des fonctions spécifiques.
Domaines d'application
Transistor : Grâce à sa structure électronique unique, le disulfure métallique bidimensionnel permet de fabriquer des transistors hautes performances. Le procédé CVD permet de produire des films minces de grande surface et de haute qualité, répondant ainsi aux exigences de fabrication des transistors.
Capteurs : Les matériaux disulfures sont également largement utilisés dans le domaine des capteurs, tels que les capteurs d'humidité, les capteurs de gaz, etc. Le film mince de disulfure préparé par la méthode CVD présente une excellente sensibilité et stabilité, ce qui peut améliorer les performances des capteurs.
Photodétecteur : Le disulfure métallique bidimensionnel est largement utilisé dans les photodétecteurs en raison de son excellente efficacité d'absorption de la lumière et de sa bande interdite réglable
Supercondensateurs : les films de disulfure préparés par la méthode CVD peuvent fournir une plus grande surface active et de meilleures performances de transfert d'électrons, améliorant ainsi la densité énergétique et la densité de puissance des supercondensateurs.
Ingénierie tissulaire : la technologie CVD permet de préparer des matériaux présentant une biocompatibilité et une activité biologique élevées, susceptibles d'être utilisés en ingénierie tissulaire. Par exemple, les matériaux disulfures peuvent être utilisés pour préparer des échafaudages ou des revêtements biologiques, favorisant ainsi la croissance cellulaire et la réparation tissulaire.
Administration de médicaments : Les films disulfures préparés par CVD peuvent également être utilisés dans les systèmes d'administration de médicaments. Ces films permettent de charger les molécules médicamenteuses et de contrôler leur vitesse de libération, permettant ainsi un traitement précis.
Catalyseur : Les films de disulfure préparés par la méthode CVD ont une surface spécifique élevée et une morphologie uniforme, ce qui est propice à la réaction catalytique.
Electronique flexible : Avec le développement de la technologie de l'électronique flexible, les dichalcogénures métalliques bidimensionnels peuvent être utilisés pour préparer des électrodes ou des couches fonctionnelles pour des dispositifs électroniques flexibles en raison de leur excellente flexibilité et de leurs propriétés mécaniques.
Informations connexes
Veuillez envoyer un e-mail pour obtenir les données de caractérisation détaillées.
Courriel : sales@xfnano.com