xfnano

Exfoliation mécanique WS2 sur Al2O3

$500.00
Frais d'expédition calculés à l'étape de paiement.
TAPER
Stockage
Jours d'expiration
TAPER
Stockage
Jours d'expiration

Détails du produit

Ajoutez une brève description pour cette section

Nom du produit

Nom : Exfoliation mécanique WS2 sur Al2O3


Présentation du produit

Le décapage mécanique d'une couche de bisulfure de molybdène monocouche sur substrat oxyde de silicium/silicium est un film monocouche préparé à partir d'un bloc de bisulfure de molybdène par décapage mécanique. La méthode de décapage mécanique, également appelée « méthode de décapage par bande », a été proposée pour la première fois par Novoselov et al. en 2004 pour la préparation de graphène monocouche. Cette méthode utilise la friction et le mouvement relatif entre la bande et le matériau du bloc pour décoller la fine couche du bloc, et utilise la force d'adhérence de la bande pour surmonter la faible force de van der Waals entre les couches moléculaires, afin de réaliser la séparation couche par couche. Cette méthode est également adaptée à la préparation de films de bisulfure monocouche ou multicouche. L'opération consiste à décoller la feuille cristalline du bloc de bisulfure à l'aide de bande adhésive, puis à la fixer sur l'autre face de la feuille cristalline de bisulfure en déchirant deux bandes pour séparer la feuille de bisulfure, ce qui réduit le nombre de couches. Après collage et déchirement répétés du ruban, on obtient du disulfure en quelques couches ou en une seule couche. Enfin, le disulfure est collé sur le substrat par nettoyage par ultrasons et par ions, et sa morphologie est caractérisée. La monocouche locale de disulfure est observée au microscope. Les fines couches de disulfure s'oxydent facilement à l'air, ce qui entraîne la perte des propriétés d'origine du matériau. Par conséquent, une isolation à l'oxygène est nécessaire lors du stockage et de l'utilisation à long terme.


Paramètres techniques

Substrat : Al2O3

Taille du substrat : 10 mm x 10 mm

Surface WS2 : ï¼?0 µm2

Caractéristiques du produit

Structure cristalline : Une seule couche de disulfure est constituée d'un atome métallique central avec deux atomes S dans une disposition hexagonale, dont la structure est similaire à celle du graphène et qui possède également des propriétés similaires à celles du graphène.

Propriétés optiques : Le disulfure préparé par décapage mécanique présente d'excellentes propriétés optiques, telles qu'un large espace, un coefficient d'absorption élevé et une forte émission de fluorescence, ce qui permet d'étudier le nombre de couches et l'effet de fluorescence.

Propriétés électriques : Le disulfure monocouche possède d'excellentes propriétés électriques, telles qu'une mobilité élevée des porteurs, une faible résistivité et une transmittance élevée, ce qui lui confère une large gamme d'applications dans le domaine de la nanoélectronique.

Propriétés mécaniques : Le disulfure monocouche possède d'excellentes propriétés mécaniques, telles qu'un module d'élasticité élevé, une résistance élevée et une épaisseur ultra-mince, ce qui en fait une application potentielle dans le domaine de la nanomécanique.


Domaines d'application

Nanoélectronique : peut être utilisée pour préparer des transistors à effet de champ, des photodétecteurs et d'autres dispositifs électroniques.

Optoélectronique : peut être utilisée pour préparer des cellules solaires, des photocatalyseurs et d'autres dispositifs photoélectriques.

Domaine catalytique : Le disulfure monocouche a une activité catalytique et peut être utilisé dans des processus catalytiques tels que les réactions de décomposition de l'eau.

Bioimagerie : le disulfure préparé par décapage mécanique présente également un certain potentiel d'application dans le domaine de la bioimagerie


Informations connexes

Veuillez envoyer un e-mail pour obtenir les données de caractérisation détaillées.

Courriel : sales@xfnano.com